《電子技術(shù)應(yīng)用》
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諾發(fā) (NOVELLUS) VECTOR EXPRESS 推出一年內(nèi)售出 100 臺(tái)

2008-03-25
作者:諾發(fā)系統(tǒng)有限公司 (Novell

2008 年 3 月 17 日,中國(guó)上海——日前,諾發(fā)" title="諾發(fā)">諾發(fā)系統(tǒng)有限公司 (Novellus Systems)宣布自其一年前推出 VECTOR Express?以來(lái),已為業(yè)界領(lǐng)先的邏輯器件" title="邏輯器件">邏輯器件和存儲(chǔ)器件制造商提供了超過(guò)100臺(tái)VECTOR Express?產(chǎn)品。目前,VECTOR Express已經(jīng)在半導(dǎo)體行業(yè)十大資本設(shè)備采購(gòu)商中的八家實(shí)現(xiàn)了量產(chǎn)" title="量產(chǎn)">量產(chǎn)。?

自 2007 年 3 月推出以來(lái),VECTOR Express 獨(dú)特的 SmartSoak?功能已為薄膜生產(chǎn)效率和晶圓" title="晶圓">晶圓性能建立了全新產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。利用諾發(fā)公司的多" title="的多">的多平臺(tái)順序處理 (MSSP) 結(jié)構(gòu),SmartSoak 通過(guò)在先進(jìn)薄膜(如抗反射層、擴(kuò)散阻擋層和氧化隔離層等)沉積過(guò)程中提高晶圓溫度的一致性,得以改善薄膜的均勻性,并減少薄膜的缺陷。同時(shí),SmartSoak還縮短了傳統(tǒng)晶圓加熱流程所耗費(fèi)的時(shí)間,從而大幅提高了設(shè)備的吞吐量。因此,VECTOR Express 有助于尖端產(chǎn)品制造商將PECVD技術(shù)推進(jìn)到45納米乃至更高的水平,同時(shí)確保成本相對(duì)于前代技術(shù)不斷降低。?

VECTOR Express 也為諾發(fā)公司在快速發(fā)展的可灰化硬掩膜 (AHM) 市場(chǎng)中獲得成功奠定了基礎(chǔ)。通過(guò)針對(duì) VECTOR Express 開(kāi)發(fā)的專(zhuān)用反應(yīng)室工具套件,諾發(fā)公司AHM 薄膜實(shí)現(xiàn)了出色的蝕刻選擇與 CD 控制,減少了缺陷,并提高了先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的器件優(yōu)良率。諾發(fā)公司 AHM 技術(shù)于 2007 年 6 月推出,目前已在多家存儲(chǔ)器制造商中實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。?

諾發(fā)公司 PECVD 事業(yè)部高級(jí)副總裁兼總經(jīng)理 Tim Archer 指出:“為保持競(jìng)爭(zhēng)力,提高每代產(chǎn)品的制造品質(zhì)并降低其成本,成為我們客戶的最基本需要。在與領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造商合作中,我們開(kāi)發(fā)出VECTOR Express以滿足這一需求。我們很高興地看到該設(shè)備在推向市場(chǎng)的第一年就迅速得到認(rèn)可。”

VECTOR Express 簡(jiǎn)介: ?

VECTOR Express PECVD 平臺(tái)適用于多種存儲(chǔ)器和邏輯器件的薄膜沉積。借助SmartSoak?處理工藝特性,VECTOR Express 實(shí)現(xiàn)了業(yè)界領(lǐng)先的生產(chǎn)效率,并從根本上改善了薄膜工藝性能。SmartSoak 采用諾發(fā) VECTOR 平臺(tái)獨(dú)特的多平臺(tái)順序處理 (MSSP) 結(jié)構(gòu),使晶圓加熱和薄膜沉積過(guò)程相互獨(dú)立,通過(guò)這種方法可以使晶圓溫度在薄膜開(kāi)始沉積時(shí)變得更加穩(wěn)定和一致,同時(shí)還能夠縮短薄膜沉積的時(shí)間。?

VECTOR Express 平臺(tái)上 AHM 技術(shù)簡(jiǎn)介:?

VECTOR Express PECVD平臺(tái)上可灰化硬掩膜(AHM)工藝可應(yīng)對(duì)高階技術(shù)節(jié)點(diǎn)應(yīng)用的挑戰(zhàn),相對(duì)于傳統(tǒng)的非晶碳膜工藝實(shí)現(xiàn)了巨大的技術(shù)突破,可支持 193nm 高深寬比圖形的蝕刻要求,而在這種情況下,變薄的光阻材料難以用傳統(tǒng)的方式完成圖形蝕刻。AHM 薄膜的特性能夠很好地滿足高端器件節(jié)點(diǎn)對(duì)蝕刻選擇比的要求,而且在光阻曝光時(shí),仍可保持對(duì)晶圓對(duì)準(zhǔn)光源的透明性。?

諾發(fā)公司簡(jiǎn)介:?

諾發(fā)系統(tǒng)有限公司(Nasdaq股票代碼:NVLS)是全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體工藝設(shè)備供應(yīng)商。通過(guò)創(chuàng)新性新技術(shù)的開(kāi)發(fā)和值得信賴的高生產(chǎn)效率的支持,該公司的產(chǎn)品能夠?yàn)榭蛻籼峁┳畲蟮膬r(jià)值。諾發(fā)是一家標(biāo)準(zhǔn)普爾500指數(shù)公司,總部位于加州圣何塞,分支機(jī)構(gòu)跨越全球各個(gè)國(guó)家和地區(qū)。有關(guān)諾發(fā)公司的更多信息,請(qǐng)?jiān)L問(wèn)網(wǎng)站www.novellus.com。?

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