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中芯搶下最先進光刻機 直接追趕臺積電

2018-05-28
關(guān)鍵詞: 臺積電 三星 半導(dǎo)體 ASML

  身為中國半導(dǎo)體“國家隊”的中芯國際,在前臺積電三星首席技術(shù)官梁孟松出任聯(lián)席 CEO 后,提出 2019 年要量產(chǎn) 14 納米 FinFET 的時程表,然供應(yīng)鏈透露,10 納米也計劃力拼在同年推出,以此來看,看似低調(diào)的中芯,其實早已開始密謀規(guī)劃在 2019 年連續(xù)發(fā)射 14 / 10 納米兩枚高端技術(shù)的巨型飛彈,要把與臺積電、三星之間的工藝距離縮短至 1~1.5 個世代,屆時,禁錮多年的國內(nèi)高端技術(shù)將全面破繭而出。

  ASML 光刻機到位,象征國內(nèi)半導(dǎo)體技術(shù)進入全新階段

  近期中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)有個非比尋常的突破,來自于中芯國際、紫光集團長江存儲、華虹集團華力微電子均獲得荷蘭設(shè)備大廠 ASML 光刻機支援,這三家大廠分屬于 14/10 納米技術(shù)、3D NAND 技術(shù),以及主攻 28 納米開發(fā),同步獲得高端光刻機,是國內(nèi)半導(dǎo)體攜手挺進高端技術(shù)的一大步。

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  中芯國際預(yù)定了一臺 ASML 極紫外光光刻機,價格 1.2 億美元,預(yù)定 2019 年交貨,這是有史以來中芯進口最高端的半導(dǎo)體機臺設(shè)備,可見在高端工藝技術(shù)上的決心,或許將展現(xiàn)“國家隊”實力。

  回顧中國半導(dǎo)體過去 18 年的發(fā)展歷程,之所以未能有更具體的突破,且持續(xù)在中、低端制程工藝徘徊,缺乏關(guān)鍵人才絕對是主因之一。但事隔 18 年,在大基金的政策主導(dǎo)下,再度引領(lǐng)中國半導(dǎo)體重新啟航,在尋找“名帥”、聚集“良將”的政策下,找來前臺積電、三星技術(shù)掌舵者梁孟松主導(dǎo)中芯的高端技術(shù)開發(fā)。

  梁孟松要挑戰(zhàn)不可能任務(wù),快速追趕臺積電

  中芯國際對外公布,28 納米 HKMG 制程也會于 2018 年底問世,而 2019 年 14 納米 FinFET 技術(shù)將正式量產(chǎn),這代表梁孟松將以不到兩年的時間,追上 14 納米技術(shù)。

  中芯只有對外公布 14 納米 FinFET 技術(shù)將在 2019 年量產(chǎn),并未提到 10 納米工藝技術(shù)問世的時間點。

  然而,供應(yīng)鏈透露,梁孟松不單計劃在 2019 年量產(chǎn) 14 納米 FinFET,更秘密規(guī)劃在 2019 年同步推出 10 納米 FinFET 工藝,這種同一年推出兩個極高端工藝的進度,在其他半導(dǎo)體大廠眼中,堪比“不可能任務(wù)”,但梁孟松要讓所有人看到,他要將巨大的“不可能”,化為實質(zhì)的技術(shù)成果。

  今年,臺積電、三星要進入全新一輪的 7 納米 FinFET 技術(shù)爭奪戰(zhàn),明年,這兩家半導(dǎo)體龍頭要比拼的是第二代 7 納米 FinFET 技術(shù),全數(shù)導(dǎo)入 ASML 的 EUV 機臺做量產(chǎn)。

  如果中芯 2019 年真的能把 10 納米 FinFET 工藝推出,其與臺積電、三星之間的技術(shù)差距,將從過去差距高達三個技術(shù)世代,大幅縮短至距離 1.5~1 個世代,這其中有另一層重要的含義——代表梁孟松只用了兩年的時間,讓“彎道超車”從口號成為事實。

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  梁孟松在 2017 年 10 月正式加入中芯國際,擔任聯(lián)席 CEO 職位,在此之前,他離開韓國三星,加入中芯國際的傳言早已是滿天飛。

  梁孟松進入中芯國際后,在內(nèi)部進行研發(fā)部門體質(zhì)大改造,落實“絕對精兵政策”,不單是一般半導(dǎo)體企業(yè)淘汰最后 3~5% 員工這么簡單,他是大刀闊斧地將技術(shù)研發(fā)(Technology Developement)部門換血率大幅提高,傳該部門離職率高達 40%,主管職等的換血率更超過 50%,然對外,他則是非常低調(diào),除了在中芯分析師電話會議上曾短暫發(fā)表言論外,對外一律是現(xiàn)“聲”不現(xiàn)“身”。

  在他加入前,中芯國際在高端技術(shù)一直苦于無法突破,單是 28 納米工藝就卡關(guān)多年。中芯曾在 2015 年宣布 28 納米 PolySion 工藝量產(chǎn)并成功使用在高通驍龍 410 處理器上,但實際使用量并不多,多年來中芯 28 納米占營收的比重一直停留在個位數(shù),且真正高端的 28 納米 HKMG 技術(shù)也遲遲無法突破。

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  中芯國際 2019 年 14 納米 FinFET 技術(shù)量產(chǎn)后,距離上一代的 28 納米 PolySion 工藝技術(shù),整整隔了四年之久。但中芯若在 2019 年讓 14 納米、10 納米技術(shù)二連發(fā),那可真的一雪之前技術(shù)裹足不前之恨,而中芯的突破,就是中國半導(dǎo)體制程技術(shù)破繭而出的關(guān)鍵轉(zhuǎn)折。

  中國半導(dǎo)體發(fā)展下半場,誰是最終的馭勢者?

  眼前的中芯國際高端工藝技術(shù)即將以“彎道超車”之姿,把過去中國半導(dǎo)體走了 18 年坎坷的未竟之功,在 2~3 年內(nèi)快速趕上,達到比肩國際半導(dǎo)體大廠的目標,中芯國際的這些成績,其實可以預(yù)示中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正在發(fā)生變化。

  變化之中,定有必然之勢,此后,察勢者智,馭勢者贏,失勢者衰。

  另一家公司,則將中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)過往的“失勢”暴露得淋漓盡致,那就是正在經(jīng)歷“曲折生死劫”中興。事件爆發(fā)的一個多月以來,無論是自媒體還是《人民日報》、新華社等權(quán)威媒體,都發(fā)出“不計成本加大芯片投資”的聲音。

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  所謂“不計成本”,只是文筆上一種簡潔形象的說法,全局的方向和共識總是容易達成,但是具體到執(zhí)行層面,我們?nèi)孕枰喔哔|(zhì)量的討論,真正還原技術(shù)和商業(yè)背后的矛與盾、利與勢。而且,從古今中外科技行業(yè)發(fā)展的普遍規(guī)律來看,核心技術(shù)的創(chuàng)新主體絕對有企業(yè)家的一席之地,這也意味著,這樣的討論也絕對不能沒有這些一線沖鋒者的參與。


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