加州山景城 2020 年 10 月 10 日 / 美通社 / --

　　新思科技（Synopsys, Inc.，納斯達克股票代碼：SNPS）近日宣布，其數字和定制設計平臺已獲得臺積公司 3 奈米制程技術驗證。此次驗證基于臺積公司的最新設計參考手冊（DRM）和工藝設計工具包（PDK），是經過廣泛合作與嚴格驗證的結果。該驗證旨在提供設計解決方案，在獲得優化 PPA 性能的同時加快新一代設計的進程。

　　臺積公司設計及基礎設施管理部資深部長 Suk Lee 表示：“我們與新思科技多年的合作成果顯著，新思科技基于臺積公司先進制程的平臺解決方案協助我們的客戶實現芯片創新，利用臺積公司 N3 制程技術顯著降低芯片功耗、提升芯片性能，并加速新產品上市的時間。對新思科技設計解決方案進行驗證令我們的共同客戶能夠基于臺積公司 N3 制程完成芯片設計，實現 PPA 優化?！?/p>

　　通過與臺積公司密切合作，新思科技開發了一系列關鍵的功能和新技術，從而確保從綜合、布局布線到時序和物理簽核在臺積公司 N3 制程實現全流程一致性。新思科技的 Fusion Compiler?RTL-to-GDSII 解決方案和 IC Compiler? II 布局布線解決方案全面支持臺積公司 N3 制程。新思科技的 Design Compiler?  NXT 綜合解決方案得到增強，讓開發者能夠充分利用臺積公司 N3 技術優勢，獲得高質量的設計結果（QoR），并利用高精度的全新電阻和電容估計方法實現與 IC Compiler? II 布局布線解決方案關聯的一致性。PrimeTime?  簽核解決方案支持 Advanced Mulit-input Switching（MIS），以實現準確的時序分析和簽核收斂。此外，Design Compiler NXT 支持臺積公司 N3 制程多種工藝，以實現高性能計算和移動芯片設計。

　　根據臺積公司 N3 制程技術特點，新思科技進一步增強了支持引腳密度感知布局和全局布線建模的數字設計平臺，以實現更好的標準單元引腳布線收斂；協同單元放置檢查和優化（CLO），以實現更快的時序收斂；通過新的單元映射（單元密度）基礎架構，最大化利用空余空間來改善 PPA；并通過自動生成過孔支柱（via pillar）和部分平行布線實現互連優化，以實現高性能設計；優化功耗感知混合驅動強度多位觸發器（MBFF），以實現低功耗設計。

　　在新思科技定制的設計平臺中增強了 Custom Compiler 的功能，以加快實現 N3 模擬芯片設計。這些功能增強是與 N3 早期用戶（包括 DesignWare?IP 團隊）共同開發并驗證的，可減少新設計規則和其他 N3 技術要求所需的工作量。新思科技 HSPICE?、FineSim?和 CustomSim?仿真解決方案有助于縮短基于臺積公司 N3 制程技術芯片設計的時間，并為臺積公司 N3 電路仿真和可靠性要求提供簽核覆蓋。

　　新思科技設計事業部系統解決方案及生態系統支持高級副總裁 Charles Matar 表示：“通過與臺積公司合作，為其先進的 N3 制程技術提供高度差異化的解決方案，使客戶更有信心開始設計日益復雜的芯片，并使開發者能夠充分利用先進 EUV 制程顯著改進 PPA，加快其差異化芯片的創新?！?/p>

　　新思科技的 N3 技術制程文件可從臺積公司獲取。新思科技設計平臺的關鍵產品獲得了以下認證：

　　數字設計解決方案

　　Fusion Compiler 和 IC Compiler II 布局布線解決方案

　　簽核平臺

　　PrimeTime 時序簽核

　　PrimePower 功耗簽核

　　StarRC?提取簽核

　　IC Validator 物理簽核

　　NanoTime 定制時序簽核

　　ESP-CV 定制功能驗證

　　QuickCap? NX 寄生參數場解算器

　　SPICE 仿真和定制設計

　　HSPICE,、CustomSim 和 FineSim 仿真解決方案

　　CustomSim 可靠性分析

　　Custom Compiler?定制設計