眾所周知,光刻機是卡住國產芯片制造的重要設備之一。目前國內的芯片制造企業(yè)們,使用的光刻機絕大部分是ASML進口,還有部分是從佳能進口的。

特別是高端一點的光刻機,比如193nm ArF浸潤式光刻機,可用于14nm,就只能從ASML進口。至于通夠用于7nm及以下工藝的EUV光刻機,只有ASML能生產,并不能賣給中國大陸廠商。

而國產最強的光刻機是上海微電子生產的 SSX600,最高的精度還處在90nm,即90nm以下的芯片制造,就必須要進口光刻機了。

所以如何將國產光刻機的技術提升上來,達到當前國產芯片的制造水平,已經是迫不及待的問題了,不說EUV,好歹來個DUV光刻機,也就是193nm ArF浸潤式光刻機吧,這樣至少能夠撐到7nm以上。

之前有各種說法,基本上都是講上海微電子的DUV光刻機快要出來了,能夠支持到28nm工藝,但后來基本被證實不太靠譜,因為沒有按照之前的時間發(fā)布。

而近日,國外媒體Verdict又來了一個最新的振奮人心的報道,稱“中國國產28nm DUV光刻機計劃在今年年底前從上海微電子(SMEE)生產出來。”

并且表示,這臺設備能夠用于制造48nm-28nm芯,另外還表示到2023年,上海微電子的光刻技術,將用于制造20nm的5G芯片。

有圖有真相

當然,鑒于這個消息并不是官方消息,也不一定是真的,但相信絕大部分人都愿意相信這是真的,因為一旦真的可以搞定DUV光刻機,用于28nm工藝了,那么也就意味著在28nm這個階段,差不多可以實現(xiàn)全國產了,這是中國芯的一大步啊。

那么接下來,就看看年底能不能推出DUV光刻機,用于28nm了,讓我們拭目以待吧,希望這次不是假的。