6 月 18 日消息，日本三井化學(xué)擁有荷蘭阿斯麥（ASML Holding NV）授權(quán)的 EUV 光罩生產(chǎn)業(yè)務(wù)，并于 2021 年開始在其巖國(guó)大竹工廠商業(yè)化生產(chǎn) EUV 光罩，從而成為該行業(yè)的全球領(lǐng)導(dǎo)者。

三井化學(xué)宣布將在其巖國(guó)大竹工廠設(shè)立碳納米管 (CNT) 薄膜生產(chǎn)線，開始量產(chǎn)半導(dǎo)體最尖端光刻機(jī)的零部件產(chǎn)品（保護(hù)半導(dǎo)體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產(chǎn)品）。

三井化學(xué)預(yù)期年產(chǎn)能力為 5000 張，生產(chǎn)線預(yù)計(jì)于 2025 年 12 月完工，可用于荷蘭 ASML 將推出的下一代高數(shù)值孔徑、高輸出 EUV 光刻機(jī)提供支持。

光掩模防塵薄膜（pellicle）用于保護(hù)光掩模的清潔，需要高透光率以及長(zhǎng)壽命。三井化學(xué) 2023 年與比利時(shí)微電子研究中心（imec）合作，將共同推進(jìn) EUV 碳納米管光掩模薄膜（pellicle）技術(shù)商業(yè)化。

那么問題來了，什么是 CNT 薄膜呢？要介紹新材料IT之家這里還需要帶大家先了解一下新 EUV 光刻機(jī)的能力和需求。

簡(jiǎn)單來說，下一代 EUV 光刻技術(shù)對(duì)高數(shù)值孔徑（NA 值 0.55）、高輸出功率 (600W 及更高) 工藝的需求尤其顯著，而由新材料制成的薄膜對(duì)于承受“能實(shí)現(xiàn)此技術(shù)所需的苛刻光刻環(huán)境”至關(guān)重要。

▲ EUV 防護(hù)薄膜

為此，三井化學(xué)開發(fā)出了新款 CNT 薄膜并決定進(jìn)行量產(chǎn)。據(jù)介紹，采用碳納米管（CNT）材料制造的薄膜，與以往產(chǎn)品相比大幅提高了強(qiáng)度和光的透射率，具有極高的 EUV 透光率（≥94%）。此外，碳納米管顆粒還能夠承受超過 1kW 的 EUV 功率，從而滿足未來新一代光刻機(jī)的需求。

▲ 碳納米管薄膜

三井化學(xué)希望通過在其產(chǎn)品線中添加使用 CNT 作為膜材料的新一代防護(hù)薄膜產(chǎn)品，以及使用硅基膜制成的傳統(tǒng) EUV 防護(hù)薄膜，從而有幫助 ASML 提高半導(dǎo)體性能和生產(chǎn)率。