本報(bào)合肥1月7日電（記者常河 通訊員王敏）中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)郭光燦院士團(tuán)隊(duì)任希鋒教授等人與新加坡國立大學(xué)仇成偉教授、郭強(qiáng)兵博士等合作，首次利用新型二維材料NbOCl2的非線性過程實(shí)現(xiàn)了超薄的量子光源，厚度可低至46納米。這是目前國際報(bào)道的最薄非線性量子光源。近日該研究成果發(fā)表于《自然》雜志。

　　 小型化、集成化是解決空間光學(xué)量子系統(tǒng)穩(wěn)定性差、不可擴(kuò)展等問題的理想方案，也是光學(xué)量子計(jì)算、量子通信等走向大規(guī)模和實(shí)用化的必經(jīng)之路。量子光源作為量子光學(xué)系統(tǒng)不可或缺的部分，其小型化一直是人們研究的重點(diǎn)。任希鋒前期與南京大學(xué)等單位合作，將超構(gòu)表面引入量子信息領(lǐng)域，集成超構(gòu)透鏡陣列與非線性光學(xué)晶體，實(shí)現(xiàn)了100路徑參量下轉(zhuǎn)換，制備了超高維量子糾纏態(tài)和多光子源。

　　 二維材料的層內(nèi)晶體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，而原子層間的相互作用力要弱很多。基于這種特性，單層二維材料可以在保持原子尺度厚度的同時(shí)也保持物理性質(zhì)的穩(wěn)定，使得二維材料可以穩(wěn)定且靈活地與各種微納尺度光學(xué)器件直接耦合，因此被廣泛應(yīng)用在集成光子芯片的各個(gè)重要組成部分之中。常見的二維材料（WS2、WSe2等）雖然具有很大的二階非線性系數(shù)，但是單層厚度太薄（<1納米），從而導(dǎo)致整體產(chǎn)生的非線性信號(hào)強(qiáng)度很低。如果增加材料的層數(shù)，又會(huì)由于多層堆疊造成的空間對稱性使得二階非線性過程減弱甚至消失。

　　 此次研究中，合作者們采用了一種新型NbOCl2材料，它不僅具有常見單層二維材料所特有的高二階非線性系數(shù)，更重要的是它的層間電子耦合弱并且空間結(jié)構(gòu)非對稱。這種特性使得它的二階非線性信號(hào)強(qiáng)度會(huì)隨著二維材料層數(shù)的增加而增加，可超過單層二維材料WS2倍頻強(qiáng)度兩個(gè)數(shù)量級以上。

　　 合作者們進(jìn)一步測試了多層NbOCl2二維材料的自發(fā)參量下轉(zhuǎn)換過程，也對參量光信號(hào)強(qiáng)度隨二維材料厚度的變化關(guān)系進(jìn)行了測量，實(shí)驗(yàn)結(jié)果和理論預(yù)期完全吻合。

　　 研究人員認(rèn)為，該研究不僅為光學(xué)量子信息研究提供了一種可集成的量子光源，也為二維材料的非線性研究開辟了一個(gè)新的方向。

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