ASML 首席財(cái)務(wù)官 Roger Dassen 近日接受了荷蘭當(dāng)?shù)孛襟w Bits&Chips 的采訪。在采訪中，Dassen 回應(yīng)了分析機(jī)構(gòu) SemiAnalysis 的質(zhì)疑，表示 High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV（極紫外光）光刻機(jī)仍是未來(lái)最經(jīng)濟(jì)的選擇。
SemiAnalysis 之前刊發(fā)文章，認(rèn)為 High-NA 光刻技術(shù)將使用更高的曝光劑量，從而明顯降低單位時(shí)間內(nèi)的晶圓吞吐量。這就意味著，相較于沿用現(xiàn)有的 0.33NA EUV 光刻機(jī)并搭配多重曝光，引入 High-NA 在近期不會(huì)帶來(lái)成本優(yōu)勢(shì)。
Dassen 認(rèn)為，SemiAnalysis 的觀點(diǎn)輕視了多重曝光路線的復(fù)雜程度，英特爾 10nm 制程難產(chǎn)的關(guān)鍵原因之一就是其 DUV+SAQP（IT之家注：Self-Aligned Quadruple Patterning，即自對(duì)準(zhǔn)四重曝光）技術(shù)路線過(guò)于復(fù)雜，正因此英特爾積極布局 High-NA EUV 技術(shù)，買(mǎi)下了第一臺(tái) High-NA 光刻機(jī)。
Dassen 表示，不同客戶對(duì)于引入 High-NA 的時(shí)間點(diǎn)有不同評(píng)估是很自然的，不過(guò) AMSL 每季度都獲得了數(shù)個(gè) High-NA EUV 光刻機(jī)新訂單。
本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外，轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點(diǎn)。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無(wú)法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問(wèn)題，請(qǐng)及時(shí)通過(guò)電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當(dāng)措施，避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失。聯(lián)系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。