美國當地時間11月26日，英特爾公司宣布，美國商務部和英特爾已根據《美國芯片與科學法案》達成最終協議，向英特爾提供78.6億美元的直接撥款。
據了解，該撥款將支持英特爾在亞利桑那州、新墨西哥州、俄亥俄州和俄勒岡州推進關鍵的半導體制造和先進封裝項目，加上25%的投資稅收抵免，將共同支持英特爾在美國超過1000億美元的投資計劃。
此次宣布的對英特爾資助計劃，將增強英特爾的技術和創新能力，確保英特爾繼續推動半導體產業的進步和發展，并支持全球半導體制造和研發。?
在代工業務進展與技術領先性方面，目前，Intel 3制程已經進入大規模生產，Intel 18A制程也將于明年緊隨其后量產，標志著即將完成一項歷史性的半導體制程節點開發，使英特爾重獲制程工藝領先地位。
此外，英特爾在先進半導體制造方面已實現了一項重要里程碑——完成了業界首臺商用高數值孔徑極紫外（High NA EUV）光刻機的安裝，并在俄勒岡州希爾斯伯勒的研發基地完成了另一臺高數值孔徑光刻機的安裝。這將使英特爾能夠推動下一代芯片制造尖端技術。
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