4月14日消息，Intel前任CEO帕特·基辛格已經(jīng)找到了新工作！本人親自宣布，已經(jīng)加盟xLight擔(dān)任執(zhí)行董事長。
xLight是一家半導(dǎo)體行業(yè)創(chuàng)業(yè)公司，主要業(yè)務(wù)室面向EUV極紫外光刻機，開發(fā)基于直線電子加速器的自由電子激光(FEL)技術(shù)光源系統(tǒng)，可顯著降低成本。
目前的ASML EUV光刻機使用的是激光等離子體EUV光源(LPP)，依賴超高功率的高能激光脈沖，因此整個系統(tǒng)極為龐大、復(fù)雜，而產(chǎn)生的EUV光源功率有限，這也是其成本、價格高昂的核心原因，單價超過1.5億美元。
因此，美國、中國、日本等都在積極研究替代方案，F(xiàn)EL自由電子激光器就是廣為看好的EUV光源，包括振蕩器、自放大自發(fā)輻射兩大技術(shù)路線。
它可以產(chǎn)生超過10kW功率的EVU光源功率，可同時滿足10臺光刻機的需要，而且不會產(chǎn)生錫滴碎片而污染環(huán)境。
其實，ASML早在十年前就考慮過FEL EUV光源路線，但最終認(rèn)為風(fēng)險偏高，而走向了LPP EUV光源。
有關(guān)研究顯示，10kW功率的FEL EUV光源的建設(shè)成本約為4億美元，每年運營成本4000萬美元。
相比之下，250W功率的LPP EUV光源的建設(shè)成本約為2000萬美元，每年運營成本1500萬美元。
算下來，EFL路線的建設(shè)成本只有LPP路線的1/2，運營成本更是1/15，綜合成本約為1/3。
基辛格加盟的xLight公司，正在研發(fā)基于ERL(能量回收直線加速器)的FEL EUV光源系統(tǒng)，可提供1000W的功率，四倍于ASML，從而將單塊晶圓光刻成本降低約50％，而且單個光源系統(tǒng)就能支持20臺光刻機，壽命也長達(dá)30年。
xLight FEL EUV光源系統(tǒng)的另一個好處，就是兼容現(xiàn)有的ASML EUV光刻機，可以直接整合，預(yù)計2028年可接入ASML光刻機，并開始生產(chǎn)晶圓。
xLight公司規(guī)模不大，但是團隊在光刻和加速器領(lǐng)域擁有豐富經(jīng)驗，包括來自斯坦福直線加速器等的資深研究人士，首席科學(xué)家Gennady Stupakov博士曾在去年拿到IEEE核能和等離子體科學(xué)學(xué)會粒子加速器科學(xué)技術(shù)獎。
