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立足產(chǎn)業(yè)發(fā)展新階段，思銳智能以先進ALD技術拓展超摩爾時代新維度
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SRII重磅推出兩款ALD新品，滿足泛半導體應用多功能性和靈活性的需求
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SRII重磅亮相CICD 2021，以先進ALD技術賦能第三代半導體產(chǎn)業(yè)
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思銳智能攜旗下Beneq品牌亮相CIOE2021，探索從微觀到宏觀層面的ALD光學應用創(chuàng)新
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40年ALD積淀助力超越摩爾，思銳智能完成第一階段發(fā)展布局
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應對“更高”存儲器件的ALD填充技術
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泛林推出業(yè)界首創(chuàng)的用于低氟鎢填充的原子層沉積工藝
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Ultratech獲中芯長電頒發(fā)“杰出供應商獎”
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倍耐克加強在批量型工業(yè)化原子層沉積技術上的領先地位
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