現(xiàn)在是個制程滿天飛的時代，過去Intel一家獨大引領(lǐng)晶元工藝進步的格局已經(jīng)被打破。雖然Intel自己和很多業(yè)內(nèi)人士認(rèn)為同為14nm，Intel制程的漏電率、功耗等技術(shù)優(yōu)勢仍然是三星14nm、臺積電16nm所不具備的，甚至根據(jù)線寬嚴(yán)格計算，后兩者的宣傳水分都很大，但在民間輿論上，數(shù)字領(lǐng)先的誘惑還是無可抵御的。日前，三星決定加速6nm制程工藝研發(fā)，矢志在新的制程大戰(zhàn)中再下一城。

當(dāng)然，三星的6nm可能更加偏向于手機SOC CPU的制造，同時也保留有7nm的晶元生產(chǎn)線，與其聯(lián)姻的格羅方德為AMD等制造7nm的CPU、GPU,明年可能就要出來了。此前有消息稱臺積電的7nm工藝也已經(jīng)流片十三次，IBM 的5nm工藝進入實質(zhì)性階段。面對百花齊放的局面，Intel 10nm工藝制程也許會更有技術(shù)優(yōu)勢，但至少在民間形象上已經(jīng)受到了一些影響。此前的消息表示，Cannonlake 進度也許會提前，但Intel 10納米工藝初期難上高頻，確定只能用在更強調(diào)能耗的筆記本平臺上。

面對制程大戰(zhàn)，最高興的可能是新銳光刻機廠商了，荷蘭ASML表示，EUV（極紫外）光刻機可用于7/6/5nm工藝，Intel、臺積電、三星等都采購了相關(guān)設(shè)備。不知道ASML 的老對手，已經(jīng)默默無聞的光刻機廠商兼影像廠商尼康會有什么心里感想。