在晶圓代工市場中，臺積電與三星的競爭始終是大家所關心的戲碼。其中，三星雖然有高通這樣的VIP 客戶，但在 7 納米制程節(jié)點上，高通預計會轉(zhuǎn)投回臺積電的情況下，三星要想受到更多的客戶的青睞，只能從工藝技術上著手了。

　　這也是三星為什么跳過非 EUV 技術的 7 納米制程，直接上 7 納米 LPP EUV 制程技術的原因。如今，三星終于公布了他的 7 納米 LPP 制程已經(jīng)完成了新斯科技（Synopsys）的物理認證，意味著 7 納米 EUV 制程將可以進行全球量產(chǎn)了。

　　事實上，目前在全球的前幾大晶圓代工廠商中，英特爾的10 納米制程還沒搞定，因此距離 7 納米制程就更遙遠了。而臺積電的 7 納米制程量產(chǎn)比較順利，會有蘋果、海思、高通、NVIDIA、AMD 等客戶陸續(xù)流片、量產(chǎn)。不過，臺積電的第一代 7 納米制程，使用的還是傳統(tǒng)的多重曝光技術，一直必須到 2019 年得第 2 代 7 納米制程才會使用 EUV 光刻技術。

　　格羅方德方面也走臺積電相似的路線，預計2018 年量產(chǎn)的 7 納米 DUV 制程還是傳統(tǒng)的深紫外光刻技術。對此，號稱頻率可達 5GHz 的 AMD 7 納米 Zen 2處理器就會使用格羅方德的 7 納米制程技術，2019 年初問世，2020年 的再下一代才是 7 納米 EUV 制程技術。

　　相對于其他競爭對手，三星在EUV 技術上是最積極的。也就是三星直接跳過了第一代非 EUV 光刻的 7 納米制程，直接使用加入 EUV 技術的 7 納米 LPP 制程，并且預定在 2018 年下半年正式量產(chǎn)。日前，新斯科技與三星已經(jīng)聯(lián)合宣布，三星使用的 7 納米 LPP 制程技術完成了 IC 驗證器的認證工作了。

　　在三星完成這次的認證之后，三星的7 納米 LPP 制程就可以立即提供認證的技術資料，包括 DRC 設計規(guī)則檢查、LVS 布局與原理圖、金屬填充技術檔等等給予相關客戶，而這也意味著三星的 7 納米 LPP 制程正式進入可以量產(chǎn)的階段。

　　目前在EUV 光刻技術競爭激烈下，各家大廠搶 EUV 光刻機也成為重要經(jīng)營項目之一。根據(jù)之前的消息，ASML 的 EUV 光刻機中，臺積電訂購了大約 10 臺，三星訂購了大約 6 臺，英特爾訂購了 3 臺，而格羅方德的EUV訂單數(shù)量不詳，中芯國際也訂購了 1 臺 EUV 光刻機，將用于 7 納米制程技術研究上，預計 2019 年初交貨。而就在各家廠商手中都握有 EUV 光刻機的情況下，似乎未來在7納米節(jié)點上要勝出，就必須對比大家的最后的技術與管理能力了。