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中微5nm刻蝕機通過臺積電認證

2018-12-19
關鍵詞: 5nm 刻蝕機

  5納米,相當于頭發絲直徑(約0.1毫米)的二萬分之一,將成為集成電路芯片上的最小線寬。臺積電計劃明年進行5納米制程試產,預計2020年量產。最近,中微半導體設備(上海)有限公司收到一個好消息:其自主研制的5納米等離子體刻蝕機經臺積電驗證,性能優良,將用于全球首條5納米制程生產線。刻蝕機是芯片制造的關鍵裝備之一,中微突破關鍵核心技術,讓“上海制造”躋身刻蝕機國際第一梯隊。

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  中微5nm刻蝕機通過臺積電認證

  走進位于金橋出口加工區的中微公司,就要換上公司提供的皮鞋,這家精密制造企業要求一塵不染。在潔凈室門外,記者看到身穿白色工作服,戴著白帽子、口罩和手套的研發人員,正在測試一臺大型設備,它就是全球屈指可數的5納米刻蝕機。只見一片片300毫米大硅片被機械手抓起,放入真空反應腔內,開始了它們的刻蝕之旅。“多種氣體會進入真空反應腔,經過化學反應變成等離子氣體,隨即產生帶電粒子和自由基,與硅片發生化學物理反應。”中微首席專家、副總裁倪圖強說,這些化學物理反應在硅片上開槽打洞,形成令人嘆為觀止的微觀結構,一塊指甲蓋大小的芯片可集成60多億個晶體管。

  方寸間近乎極限的操作,對刻蝕機的控制精度提出很高要求。刻蝕尺寸的大小與芯片溫度一一對應,中微自主研發的部件使刻蝕過程的溫控精度保持在0.75攝氏度內,達到國際領先水平。氣體噴淋盤是刻蝕機的核心部件之一,中微和國內企業聯合開發出一套創新工藝,用這套工藝制造的金屬陶瓷,其晶粒十分精細、致密。與進口噴淋盤相比,國產陶瓷鍍膜的噴淋盤使用壽命延長一倍,造價卻不到五分之一。

  創新成功的秘訣是什么?秘訣之一是超前布局研發。2004年中微創立時,全球最先進的芯片生產線是90納米制程,那時他們就開始研發40納米刻蝕機,因為集成電路產業技術迭代很快,超前兩代研發才能掌握主動權。擁有國際化團隊,也是一個成功原因。經過本土培養和海外引進,中微600多名員工來自十多個國家和地區。而且公司研發團隊很完整,200多人的專業覆蓋30多門學科,為刻蝕機研發這一系統工程奠定了基礎。

  憑借自主創新,中微已申請1200多件國內外專利。“因為有大量專利保護,我們經歷4次與發達國家企業的知識產權訴訟,未嘗敗績。”公司副總裁曹煉生說。如今,中微與泛林、應用材料、東京電子、日立4家美日企業一起,組成了國際第一梯隊,為7納米芯片生產線供應刻蝕機。明年,臺積電將率先進入5納米制程,已通過驗證的國產5納米刻蝕機預計會獲得比7納米生產線更大的市場份額。


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