近期業(yè)內(nèi)人士指出純國(guó)產(chǎn)的14nm工藝最快將在明年底量產(chǎn)，這與此前力推的28nm工藝實(shí)現(xiàn)純國(guó)產(chǎn)，無疑是一個(gè)巨大的進(jìn)步，國(guó)產(chǎn)先進(jìn)工藝的快速進(jìn)展將有利于推動(dòng)國(guó)產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)的躍進(jìn)。
最早傳出14nm國(guó)產(chǎn)化的是電子信息研究所所長(zhǎng)溫曉君，今年6月他接受采訪的時(shí)候就表示國(guó)產(chǎn)14nm芯片將在明年年底前實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，那么純國(guó)產(chǎn)芯片制造工藝為何一下子就從此前的努力實(shí)現(xiàn)28nm國(guó)產(chǎn)化躍進(jìn)到14nm呢？
這就要從光刻機(jī)的特性說起，業(yè)界人士指出其實(shí)并沒有嚴(yán)格意義上的28nm、14nm光刻機(jī)，自從45nm工藝以來都是采用浸潤(rùn)式光刻機(jī)，光源都是DUV光源ArF，激光光源波長(zhǎng)都是193nm，然后通過水介質(zhì)的折射后將波長(zhǎng)進(jìn)一步縮短，如此光源的波長(zhǎng)可以縮短至132nm至12nm，由此就可以生產(chǎn)45nm至28nm工藝。
后來芯片制造工藝又引入了FinFET技術(shù)，從而同樣以193nm光源的DUV光刻機(jī)卻可以生產(chǎn)出14nm－10nm工藝的芯片，甚至臺(tái)積電第一代7nm工藝也是以DUV光刻機(jī)和FinFET技術(shù)開發(fā)出來的。中芯國(guó)際已以ASML的DUV光刻機(jī)生產(chǎn)出14nm工藝，這就意味著國(guó)內(nèi)的芯片制造企業(yè)已掌握了FinFET技術(shù)。
目前國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)已做到40nm，其中的關(guān)鍵就是如何以技術(shù)手段將193nm的光源通過水介質(zhì)折射后進(jìn)一步縮短，而將193nm的光源通過水介質(zhì)折射后用于生產(chǎn)28nm、14nm的光源原理應(yīng)該類似，近期就有業(yè)界人士傳出國(guó)產(chǎn)的光源技術(shù)已成功取得突破，將光源縮短到13．5nm，如此一來研發(fā)出用于生產(chǎn)14nm工藝的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)也就在情理之中。
生產(chǎn)一個(gè)先進(jìn)工藝制程其實(shí)不僅僅是光刻機(jī)，而是有諸多環(huán)節(jié)和設(shè)備，業(yè)內(nèi)人士總結(jié)大約就是八大環(huán)節(jié)，此前國(guó)產(chǎn)芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈通過點(diǎn)突破的方式陸續(xù)解決了除光刻機(jī)之外的其他環(huán)節(jié)和設(shè)備，都已進(jìn)展到14nm及更先進(jìn)工藝。
其中廣為人知的當(dāng)屬刻蝕機(jī)，而刻蝕機(jī)也是國(guó)產(chǎn)芯片制造設(shè)備中進(jìn)展最快的，目前國(guó)產(chǎn)的刻蝕機(jī)已突破到5nm工藝，這也說明了國(guó)內(nèi)的技術(shù)研發(fā)實(shí)力是相當(dāng)強(qiáng)的，完全有足夠的技術(shù)實(shí)力研發(fā)先進(jìn)的芯片制造設(shè)備。
只不過光刻機(jī)是其中最為復(fù)雜的一種設(shè)備，涉及到激光光源、鏡頭、機(jī)臺(tái)等，僅僅是光刻機(jī)其實(shí)就一條相當(dāng)復(fù)雜的產(chǎn)業(yè)鏈，ASML的光刻機(jī)也是需要德國(guó)、日本和美國(guó)的諸多廠商提供相關(guān)的配件才能生產(chǎn)出來，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)此前在機(jī)臺(tái)、光源等方面都已突破了，其中的技術(shù)關(guān)鍵應(yīng)該就在于如何將193nm的光源通過技術(shù)處理進(jìn)一步縮短，如今這一個(gè)難題得到解決，同時(shí)解決28nm和14nm光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化也就在情理之中。
ASML在今年一季度突然大舉對(duì)中國(guó)出貨DUV光刻機(jī)，其中的原因或許就是它了解到中國(guó)在光刻機(jī)技術(shù)上的突然進(jìn)展，希望在中國(guó)量產(chǎn)14nmDUV光刻機(jī)之前再賺一筆；美國(guó)突然出手要求ASML停止對(duì)中國(guó)出售14nm以下的光刻機(jī)，可能都與此有關(guān)，因?yàn)橹袊?guó)即將解決14nm工藝的光刻機(jī)，限制14nm以上的光刻機(jī)已沒有了意義。
中國(guó)人在技術(shù)研發(fā)方面的實(shí)力人所共知，連美國(guó)的許多技術(shù)研發(fā)人才都是華裔，也可以看出中國(guó)人在技術(shù)研發(fā)方面的天賦，美國(guó)的做法激發(fā)了中國(guó)技術(shù)人才的奮進(jìn)之心，數(shù)年時(shí)間就在芯片制造方面取得飛躍式的進(jìn)步，這顯然出乎美國(guó)的意料，事實(shí)已經(jīng)說明了限制無助于全球科技的發(fā)展，全球科技的發(fā)展就需要互補(bǔ)，合作才能共贏。
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