《電子技術(shù)應(yīng)用》
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韓國中小半導(dǎo)體企業(yè)正在轉(zhuǎn)向英偉達(dá)和臺積電

2025-01-02
來源:快科技
關(guān)鍵詞: 三星 英偉達(dá) 臺積電

1月1日消息,據(jù)媒體報道,韓國的中小型半導(dǎo)體企業(yè)開始跟隨著英偉達(dá)臺積電的腳步,進行下一代產(chǎn)品量產(chǎn)的發(fā)展與生產(chǎn)。

ZDNet Korea報道稱,韓國中小型制造業(yè)正在配合英偉達(dá)和臺積電下一代技術(shù)的引進,特別是在英偉達(dá)計劃于2025年正式發(fā)表的下一代B300 AI芯片。

這款芯片將是英偉達(dá)Blackwell架構(gòu)旗下效能最高的產(chǎn)品,需要新的材料與設(shè)備來配合,促使韓國中小半導(dǎo)體企業(yè)開始緊盯進度。

英偉達(dá)B300 AI芯片預(yù)計將配備12層堆疊的HBM3E內(nèi)存,并以板載形式生產(chǎn),整合高性能GPU、HBM和其他芯片。

這一變化意味著,如果新的AI芯片改用基板生產(chǎn)模式,舊型的連接界面將會帶來效能問題,因此GPU和載板之間的穩(wěn)定連接被認(rèn)為是需要克服的瓶頸。

連接介面主要由韓國和中國臺灣的后端制程組件公司供應(yīng),這些公司從2024年第四季度起提供新的連接介面產(chǎn)品測試。

臺積電也正在升級CoWoS先進封裝,CoWoS將半導(dǎo)體芯片水平放置在基板的硅中介層上,臺積電用更小中介層CoWoS-L于最新HBM產(chǎn)品。

CoWoS電路測量采用3D光學(xué)檢測,布線寬度減至1微米時,性能限制使測量困難,臺積電制定將AFM(原子顯微鏡)用于CoWoS。


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