埃賽力達科技有限公司（Excelitas Technologies^?）是一家創(chuàng)新的致力于改變人們生活的先進技術供應商，為生命科學、先進工業(yè)、下一代半導體、航空航天和國防終端領域的全球知名品牌提供服務。該公司近期推出了適用于252 mm中等焦距范圍的LINOS^? UV F-Theta Ronar低釋氣透鏡。新款LINOS F-Theta鏡頭專為配合埃賽力達 LINOS UV 擴束鏡而設計，與傳統(tǒng)產(chǎn)品相比具有更優(yōu)異的耐用性，可支持激光材料加工中所需的更高的UV脈沖能量和更短的激光脈沖，可廣泛用于半導體、晶圓加工、電子顯示器和太陽能電池制造等領域。

　　該透鏡通過顯著減少輔助材料和潔凈裝配工藝，實現(xiàn)了優(yōu)異的耐用性。其獨特的UV設計采用了高品質熔融石英透鏡和高端寬帶透鏡鍍膜，不僅確保了出色的光學性能，還有效減少了背向反射。其優(yōu)化的包裝和防塵材料進一步提升了鏡頭的低釋氣性能。此外，埃賽力達還優(yōu)化了生產(chǎn)、鍍膜、物流、倉儲和裝配流程，從源頭到成品全程降低污染風險，確保組件在整個工作流程中的高質量。

　　主要規(guī)格和特性：

• 減少釋氣：采用先進的設計和生產(chǎn)工藝，實現(xiàn)優(yōu)異的低釋氣性能

• 優(yōu)化設計：適用于340 nm和 360 nm紫外波長，采用高端寬帶鍍膜

• 精確的掃描性能： 掃描場內的光斑尺寸變化較小，在10 mm掃描光圈下的掃描場范圍為 142 mm2 x 142mm2米，15 mm掃描光圈下的光斑尺寸可小至 11 μm

• 改進的處理能力：可應對高功率和短脈沖應用需求

• 長期光學穩(wěn)定性：采用先進技術制造，確保鏡頭的耐用性和可靠性

• 優(yōu)化背向反射：有效減少掃描儀鏡面損傷，并延長使用壽命

• M85x1機械接口：便于輕松集成到各種系統(tǒng)中

　　“憑借其創(chuàng)新的減少釋氣設計和掃描場內光斑尺寸變化，LINOS UV F-Theta Ronar低釋氣透鏡重新定義了激光材料加工的光學性能和可靠性。我們很高興將這一解決方案納入LINOS F-Theta-Ronar產(chǎn)品系列中。”埃賽力達產(chǎn)品經(jīng)理Matthias Koppitz表示

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