8 月 5 日消息，綜合《日本經濟新聞》《日刊工業新聞》兩家日媒報道，佳能在當地時間 7 月 30 日為一家位于栃木縣宇都宮市的半導體光刻設備工廠舉行開業儀式，這也是佳能時隔 21 年開設的首家新光刻機廠。
佳能宇都宮工廠總建筑面積為 67518 平方米，總投資額約 500 億日元（注：現匯率約合 24.37 億元人民幣），投產后佳能的光刻設備產能將相較 2021 年翻倍。該工廠將于今年 9 月啟動最初生產，明后年補充鏡頭加工制造能力。
▲ 佳能 KrF 光刻機
佳能宇都宮工廠不制造 EUV、ArF(i) 等較為先進的光刻設備，而是聚焦 i 線、KrF 等成熟光源平臺。AI 興起帶來的后端先進封裝需求日益攀升，而這正是傳統光刻機的用武之地。此外，宇都宮工廠也將制造 NIL 納米壓印圖案化系統。
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