Cadence公司4月18日正式發(fā)布針對(duì)7nm工藝的全新Virtuoso 先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)平臺(tái)。通過(guò)與采用7nm FinFET工藝的早期客戶展開(kāi)緊密合作，Cadence成功完成了Virtuoso定制設(shè)計(jì)平臺(tái)的功能拓展，新平臺(tái)能幫助客戶管理由于先進(jìn)工藝所導(dǎo)致的更復(fù)雜的設(shè)計(jì)以及特殊的工藝效應(yīng)。新版Virtuoso先進(jìn)工藝平臺(tái)同樣支持所有主流FinFET先進(jìn)節(jié)點(diǎn)，性能已得到充分認(rèn)證；同時(shí)提高了7nm工藝的設(shè)計(jì)效率。

　　為了應(yīng)對(duì)7nm設(shè)計(jì)的眾多技術(shù)挑戰(zhàn)，Virtuoso先進(jìn)工藝平臺(tái)提供豐富的版圖設(shè)計(jì)功能，包括：支持多重曝光（MPT）的色彩感知的編輯功能、支持FinFET網(wǎng)格功能、及支持模塊生成器（ModGen）器件陣列編輯功能等多種高級(jí)編輯功能。同時(shí)，在電路設(shè)計(jì)流程中，客戶可以使用Spectre APS仿真器、Virtuoso ADE產(chǎn)品套件和Virtuoso 原理圖編輯器執(zhí)行對(duì)多工藝邊界的蒙特卡洛分析（Monte Carlo Analysis），從而加強(qiáng)電路設(shè)計(jì)的差異分析。

　　聯(lián)發(fā)科技（MediaTek）模擬設(shè)計(jì)與電路技術(shù)部總經(jīng)理Ching San Wu表示，“我們與Cadence長(zhǎng)期開(kāi)展密切合作，成功開(kāi)發(fā)并部署了基于Virtuoso先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)平臺(tái)的定制設(shè)計(jì)方法。采用Cadence針對(duì)7nm工藝專(zhuān)門(mén)開(kāi)發(fā)的多項(xiàng)獨(dú)特功能，我們得以成功實(shí)現(xiàn)近期的流片。”