ASML近日官宣，最新規(guī)格EUV光刻機擬明年中期發(fā)貨。
據《科創(chuàng)板日報》消息，ASML公布了EUV路線圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格，這是30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產率，并改進機器匹配套準精度至1.1納米，并計劃于2021年的中期開始發(fā)貨。
在DUV光刻業(yè)務領域，ASML在本季度對第一臺TWINSCAN NXT:2050i進行了質量認證，并于第四季度初發(fā)貨。NXT:2050i基于NXT平臺的新版本，其中包括掩模版工作臺，晶圓工作臺，投影物鏡和曝光激光器的技術改進。該系統(tǒng)提供了比其前身更好的套刻精度控制，并具有更高的生產率，而且，NXT:2050i 將立即進入批量生產。
ASML是全球光刻機行業(yè)龍頭，市占率超過60%，在DUV浸入式光刻機市場占據了最大的份額，并壟斷了頂級的EUV光刻機市場。
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