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韓國EUV光刻技術獲重大突破

2020-11-19
來源:OFweek電子工程網
關鍵詞: 韓國 EUV 三星 5nm工藝

    11月17日消息,韓國知識產權局(KIPO)公布的統(tǒng)計數據顯示,2011-2020年,韓國EUV光刻專利2014年有88項,2018年有55項,2019年則為50項。

    據報道,以三星為代表的韓國企業(yè)通過不斷的在研究開發(fā)方面投入,在EUV光刻技術上不斷縮小與行業(yè)領先企業(yè)之間的差距。近期,三星正式推出的Exynos1080芯片,背后就有對EUV光刻機技術突破的因素。

    Exynos1080芯片是三星首款基于5nm工藝制造的手機SoC芯片。

    

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