由于國內(nèi)客戶需求的激增,臺積電在國內(nèi)工廠產(chǎn)能也是爆發(fā)。

據(jù)中國臺灣媒體報道,半導(dǎo)體巨頭臺積電南京廠目前月產(chǎn)能已達成原定2萬片目標(biāo),而之前依計劃擴增南京廠產(chǎn)能,今年月產(chǎn)能已由1．5萬片擴增至2萬片,制程技術(shù)以12nm及16nm為主。

此前有消息稱,臺積電決定啟動南京廠第2期擴建,并以28nm制程為主。對于這個消息,臺積電表示,目前南京廠尚無進一步擴產(chǎn)具體計劃。

臺積電財報顯示,臺積電南京廠去年即轉(zhuǎn)虧為盈,全年獲利新臺幣12．89億元(約合人民幣 2．97 億元)。隨著產(chǎn)能規(guī)模擴大,今年前3季獲利擴增至新臺幣91．29億元(約合人民幣21億元)。

此前還有媒體報道稱,為了保持領(lǐng)先,臺積電已經(jīng)下單訂購了至少13臺ASML的Twinscan NXE EUV光刻機,將會在2021年全年交付,不過具體的交付和安裝時間表尚不清楚。同時,明年臺積電實際需求的數(shù)量可能是高達16到17臺EUV光刻機。

目前,臺積電使用ASML的Twinscan NXE EUV光刻機在其N7+以及N5節(jié)點上制造芯片,但在未來幾個季度,該公司將增加N6(實際上將在2020年第四季度或2021年第一季度進入HVM)以及同樣具有EUV層的N5P工藝。臺積電對EUV工具的需求正在增加是因為其技術(shù)越來越復(fù)雜,更多地方需要使用極紫外光刻工具處理。臺積電的N7+使用EUV來處理最多4層,以減少制造高度復(fù)雜的電路時多圖案技術(shù)的使用。