ASML是全球唯一一家量產(chǎn)EUV光刻機(jī)的,臺(tái)積電、三星、Intel的7nm、5nm及未來(lái)的3nm、2nm都要依賴EUV光刻機(jī),單臺(tái)售價(jià)超過(guò)1億美元,成本極高。

ASML的EUV光刻機(jī)目前使用的還是第一代,EUV光源波長(zhǎng)在13．5nm左右,物鏡的NA數(shù)值孔徑是0．33,發(fā)展了一系列型號(hào)。

其中最早量產(chǎn)出廠的是NXE:3400B,產(chǎn)能有限,一小時(shí)生產(chǎn)晶圓是125PWH,目前的出貨主力是NXE:3400C,產(chǎn)能提升到135WPH,今年底還有NXE:3600D系列出貨,產(chǎn)能再進(jìn)一步提升到160WPH,不過(guò)價(jià)格也會(huì)提升到1．45億美元了。

現(xiàn)在第一代的EUV光刻機(jī)NA指標(biāo)太低,第二代EUV光刻機(jī)會(huì)是N XE:5000系列,其物鏡的NA將提升到0．55,進(jìn)一步提高光刻精度,半導(dǎo)體工藝突破1nm工藝就要靠下一代光刻機(jī)了。

然而NA 0．55的二代EUV光刻機(jī)沒(méi)那么容易,原本預(yù)計(jì)最快2023年問(wèn)世,最新傳聞稱NXE:5000系列跳票,而且一下子就跳票三年,要到2025-2026年才有可能問(wèn)世了。

不僅時(shí)間延期,二代EUV光刻機(jī)的價(jià)格也會(huì)大漲,預(yù)計(jì)輕松達(dá)到3億美元,是現(xiàn)有EUV光刻機(jī)的2-3倍,這就意味著未來(lái)的芯片工藝成本極其昂貴,哪怕真能做到1nm工藝,那高昂的成本也會(huì)讓大多數(shù)公司退而卻步。

按照這樣的發(fā)展下去,估計(jì)1nm工藝的大客戶就剩下蘋(píng)果自己了。