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消息稱三星1&2代3nm工藝良率僅60%和20%

年內恐大面積更換半導體高管
2024-11-08
來源:IT之家

11 月 7 日消息,韓媒《時事周刊 e》(Sisa Journal e)當地時間今日報道稱,三星電子第 1、2 代 3nm 工藝(注:即 SF3E-3GAE 與 SF3-3GAP)目前良率分別為 60% 和 20% 左右。

這一水平未達到高通、英偉達等主要潛在客戶提出的 70% 要求,導致三星無法在最先進制程上與臺積電爭奪訂單,進而影響了三星尖端邏輯工藝投資的收益能力。

韓媒表示,作為一家某種意義上算是 IDM 的企業,三星 DS 部的三大業務部存儲器、系統 LSI、Foundry 實際上環環相扣:

系統 LSI 設計的自家 Exynos 處理器如能由 Foundry 順利制造,則對外界證明了 Foundry 的技術水平,這會吸引外部客戶選擇三星邏輯代工 + HBM + 先進封裝“交鑰匙”方案,存儲器業務部的先進 HBM 內存自然不愁銷路。

而三星電子目前未能實現這一良性循環,導致半導體業務整體處于危機狀態。

韓媒認為三星電子 DS 部將在集團年度管理層調整中經歷高管大洗牌,三大業務部的負責人均可能被更換。同時這一調整預計于本月內進行,早于常例的 12 月初。

三星電子今年 5 月出人意料地在年中就更換了 DS 部總負責人,由全永賢接替慶桂顯。


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