| 高集成度多標(biāo)記光刻版版圖的快速處理技術(shù) | |
| 所屬分類：技術(shù)論文 | |
| 上傳者：aetmagazine | |
| 文檔大小：569 K | |
| 標(biāo)簽： 微光刻 高集成度 快速排布 | |
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| 文檔介紹：介紹了一種高集成度多標(biāo)記光刻版版圖的快速處理技術(shù)。其中包括以下四個(gè)模塊： chip芯片排布模塊、標(biāo)記排布模塊、芯粒數(shù)統(tǒng)計(jì)模塊和自動(dòng)版號(hào)模塊。在版圖編輯工具L-edit中使用這些模塊可以大幅提升微光刻中的高集成度多標(biāo)記光刻版版圖的排布效率并提高準(zhǔn)確度，從而有效縮短掩膜版的生產(chǎn)周期。 | |
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